第270章 光刻机的诱惑（第2页）

现在美国正在对中国半导体产业发起全面打压，他们不会允许核心技术向中国转移。”

“我当然知道这个风险。”

威廉姆斯语气坚定，“但我已经六十三岁了，经历过太多政治干预科技发展的事情。

这一次，我想站在正确的一边。”

“在我看来，科技创新不应该被任何国家垄断。

中国有权发展自己的半导体产业。

而且，根据我的了解，中微在刻蚀机领域的技术突破，表现出非凡的创新能力。

我相信，只要有正确的方向和足够的投入，你们同样可以在光刻机领域取得突破。”

“这个时机选择得非常微妙。”

李一凡有所意道，“就在昨晚，美国商务部刚刚对我们的刻蚀机业务施压。”

“正是如此。”

威廉姆斯说，“现在的半导体产业已经被政治因素严重扭曲。

在ASML，我亲眼目睹了很多创新项目是如何被政治因素扼杀的。

但科技创新不应该被地缘政治所束缚。

中国作为世界第二大经济体，理应拥有自己的半导体制造能力。”

“不过，”

他话锋一转，“发展光刻机可能比你想象的更难。

这不仅需要巨额投入，还需要十年甚至更长时间的积累。”

“这一点我很清楚。”

李一凡说道，“但正如您所说，科技创新不应该被垄断。

我想请教的是，以中微目前的技术积累，进军光刻机领域有多大的可能性？”

威廉姆斯从公文包里提取了一份厚厚的文件：“这是我们团队准备的初步方案。

坦白说，中微在刻蚀机上的技术突破给了很大信心。

你们在我们控制、精密机械和光学系统等方面的积累，完全可以为发展光刻机打下基础。”

“而且，”

他翻开文件，指着其中的技术路线图，“我们有一个全新的想法。

传统光刻机的技术路线依赖于波长的长度，从深南方到极南方。

但这条路越走越难，成本也越来越高。

我们的团队提出了一个新的技术方案，通过创新的光学系统设计和光源捕捉技术，在保持现有光源的基础上，实现更高的精度。”

李一凡认真翻阅方案。

作为重生者，他知道未来十年光刻机技术的方向发展。

威廉姆斯团队提出的这个方案，竟然与十年后的主流技术路线惊人相似。

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“这个方案在ASML为什么没有推进？”

威廉姆斯苦笑一声：“政治人物。

公司高层认为这个技术路线太具有创新性，如果成功，可能会降低光刻机的成本倾向。

这不符合他们维持高利润的战略。

更重要的是，他们担心这项技术会被中国企业模仿。”

“所以您选择了中微？”

“是的。”

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